无损退膜新利器！纯源RIE250I-2反应离子刻蚀设备赋能高端制造升级
在高端制造向精密化、长效化迈进的进程中，如何精准剥离既有膜层，已成为产品返工、模具翻新与科研实验的核心环节。传统退膜技术因效率低下、膜层残留、易损伤基材等痛点，既制约生产效能，也严重影响产品品质。
安徽纯源镀膜科技有限公司深耕真空刻蚀领域二十余年，依托70余项核心知识产权与国际先进技术积淀，专为类金刚石膜层退膜量身打造，重磅推出RIE250I-2反应离子刻蚀设备。该设备以“高效、均匀、无损”为核心优势，重新定义退膜技术新标杆，为多行业提供全场景精准退膜解决方案。
RIE250I-2是一款聚焦核心需求的专业退膜设备，应用领域覆盖高端制造全产业链，可适配多元产品的退膜需求：
能针对光学模压模具、精密注塑模具、高硬度刀具模具等进行膜层翻新，解决类金刚石膜失效后难以高效剥离的难题；
可适配发动机关键零部件、活塞环等镀膜瑕疵后的退膜处理，保障零部件二次镀膜的精度与性能；
能满足3C产品外壳、智能穿戴设备等零部件的返工退膜需求，确保产品外观与功能不受影响。
无论是批量生产中的高效退膜，还是科研场景下的精准控制，RIE250I-2都能从容应对。
设备的核心竞争力源于对难剥离膜层的深度适配与性能突破。它专门针对类金刚石膜（DLC）、四面体非晶碳膜（ta-C）等高性能膜层设计—这类膜层因硬度高、化学稳定性强，传统退膜方式难以彻底剥离且易损伤基材。RIE250I-2凭借专属刻蚀工艺，可实现膜层彻底退除无残留，有效退膜范围达直径250mm，中心区域均匀性优异，完美解决传统设备“内圈残留、外圈过刻蚀”的痛点，为后续镀膜工序奠定纯净基材基础。
技术硬核是设备性能卓越的坚实支撑。RIE250I-2融合纯源多项自主专利技术，在效率、精度、安全性上实现三重突破：
设备搭载2套纯源自主研发的离子刻蚀源，通过两侧对称布局同步作用，不仅彻底解决单源退膜不均的行业难题，更将退膜效率大幅提升——可在30分钟内将100nm厚度的类金刚石膜层彻底退净，退膜效率较传统设备提升50%以上，且全程不损伤基材表面精度；离子源可通过气缸顶起，后期保养维修便捷高效，降低设备运维成本。
采用旋片泵+分子泵组合抽气系统，极限线Pa m /s，为退膜过程构建洁净无杂质的真空环境，避免外界污染物附着基材，确保二次镀膜的膜层结合力与稳定性。
作为一家由新加坡归国创业团队创立的高科技企业，纯源始终秉持“交钥匙式服务”理念，为客户提供从设备安装调试、2～3天专业操作培训，到稳定成熟的退膜配方支持、1年质保及终身维修保养的全周期服务。依托产学研深度融合的技术优势与500余家客户服务经验，纯源已成为高端真空设备领作为该领域的领军者，RIE250I-2的推出，正是公司“以技术赋能行业”理念的又一次实践落地。在制造业追求高效生产与品质升级的当下，RIE250I-2反应离子刻蚀设备凭借卓越的性能表现、广泛的工艺适配性与便捷的操作体验，已成为高端制造企业与科研院所的优选退膜设备。
